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纸质出版日期:1996
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[1]贾申利,王季梅.真空CuCr触头微粒的产生[J].高压电器,1996(04):57-59.
真空CuCr触头微粒的产生[J]. High voltageapparatus, 1996, (4): 57-59.
[1]贾申利,王季梅.真空CuCr触头微粒的产生[J].高压电器,1996(04):57-59. DOI:
真空CuCr触头微粒的产生[J]. High voltageapparatus, 1996, (4): 57-59. DOI:
介绍了CuCr触头在机加工后和开断额定电流后表面上产生的微粒对绝缘性能的影响
能更加深入地了解真空灭弧室中微粒产生的权理以及电流老炼的作用。对灭弧室生产厂家为改善灭弧室的耐压性能而进行各种处理的选择是十分有益的。
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