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烧结法与熔渗法铜铬触头微观组织差异及对电性能的影响
更新时间:2025-04-26
    • 烧结法与熔渗法铜铬触头微观组织差异及对电性能的影响

    • MICROSTRUCTURES AND INTERRUPTING BEHAVIORS OF CuCr CONTACTS MADE BY P/M MANUFACTURE PROCESSES

    • 高压电器   2003年第4期 页码:52-55
    • 中图分类号: TM503.5
    • 纸质出版日期:2003

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  • [1]傅肃嘉.烧结法与熔渗法铜铬触头微观组织差异及对电性能的影响[J].高压电器,2003(04):52-55. DOI:

    FU Su-jia. MICROSTRUCTURES AND INTERRUPTING BEHAVIORS OF CuCr CONTACTS MADE BY P/M MANUFACTURE PROCESSES[J]. High voltageapparatus, 2003, (4): 52-55. DOI:

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