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1. 华中理工大学
2. 华中理工大学 武汉430074
纸质出版日期:1996
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[1]王永兴,邹积岩.CuCr触头材料制造工艺的现状与新发展[J].高压电器,1996(03):43-45.
CuCr触头材料制造工艺的现状与新发展[J]. High voltageapparatus, 1996, (3): 43-45.
[1]王永兴,邹积岩.CuCr触头材料制造工艺的现状与新发展[J].高压电器,1996(03):43-45. DOI:
CuCr触头材料制造工艺的现状与新发展[J]. High voltageapparatus, 1996, (3): 43-45. DOI:
概述了真空开关所用的CuCr触头材料制造工艺中的粉末冶金、真空熔炼等制造工艺的特点和存在的问题
并着重介绍了等离子体技术在CuCr材料制造中的应用。
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