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西安交通大学
Published:1987
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[J]. High voltageapparatus, 1987, (3): 36-42.
DOI:
[J]. High voltageapparatus, 1987, (3): 36-42. DOI:
纵向磁埸真空灭弧室在结构上具有很多优点
目前世界各国都已得到广泛的应用。本文通过下列六个方面进行了分析。 (1) 纵向磁埸强度大小与电弧电压的关系。以及对分断能力、触头开距、触头直径影响的分析; (2) 涡流纵向磁埸大小和时间滞后关系的实测
减小触头表面涡流的几种措施及其效果; (3) 平面整体对接触头和镶嵌对接触头结构的分析及其发展趋势; (4) 双边线圈
单边线圈和屏蔽罩线圈三种不同结构纵向磁场分布的分析和应用范围; (5) 加强触头部分机械强度引起纵向磁场线圈电流分流的分析及计算和实测; (6) 纵向磁场触头材料的选择。 最后总结了上述的分析
并提出纵向真空灭弧室结构的合理设计的途径。
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