日本真空灭弧室近期发展动向

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日本真空灭弧室近期发展动向

更新时间：2025-04-26

- 日本真空灭弧室近期发展动向
- High VoltageApparatus Issue 1, Pages: 28-33(1993)
- 作者机构：
  
  华中理工大学,武汉,430074
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：1993
- 稿件说明：
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[1]程礼椿.日本真空灭弧室近期发展动向[J].高压电器,1993(01):28-33.

日本真空灭弧室近期发展动向[J]. High voltageapparatus, 1993, (1): 28-33.
[1]程礼椿.日本真空灭弧室近期发展动向[J].高压电器,1993(01):28-33. DOI：

日本真空灭弧室近期发展动向[J]. High voltageapparatus, 1993, (1): 28-33. DOI：

<正> 1992年9月6～10日

第15届真空放电与绝缘国际会议在德国Darmstadt举行。会上

日本东芝公司的代表就日本真空灭弧室近期发展情况提出报告。报告内容包括:在小尺寸灭弧室中阳极斑点的新机理;小电流和过电压的新研究;低过电压和高耐压触头材料的开发;电压老炼作用的新研究;低过电压和大电流真空灭弧室的开发。这篇报

<正> 1992年9月6～10日

第15届真空放电与绝缘国际会议在德国Darmstadt举行。会上

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