High VoltageApparatusIssue 5, Pages: 21-25+55(1984)
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西安交通大学
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Published:1984
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[J]. High voltageapparatus, 1984, (5): 21-25+55.
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[J]. High voltageapparatus, 1984, (5): 21-25+55.DOI:
直流SF6装置中支撑绝缘子冲击闪络特性的研究——导电微粒的影响
摘要
作者所进行的研究表明
绝缘子表面存在导电微粒时
其对冲击闪络水平的影响不仅与微拉所在位置、方向等直接有关
而且具有不同的放电特性。场强分析还证明了场强切线分量对沿面闪络发展的重要性。存在导电微粒时
由先期施加直流高压产生的静电积聚对支撑绝缘子冲击闪络水平的影响也有类似的极性效应。研究还证明
波纹状表面盘形绝缘子在导电微粒作用下
其电气性能仍然优于光滑表面绝缘子。文章在进行试验研究的基础上
提出了设计用于直流输电SF
6
支撑绝缘子的原则性意见。
Abstract
This paper presents the results concerning the influence of condul-ting partical fixed on the spacer surface on the impulse flashover level in compressed SF6.Results show that the influence depends mainly on the location and direction of the partical.All results also show that the electric performances of disc spacers with corrugated surface are superior to the disc spacers with smooth surface.Some suggestions are made on designing of spacers used in HVDC GIS.