瓷柱真空灭弧室的绝缘性能

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瓷柱真空灭弧室的绝缘性能

更新时间：2025-04-26

- 瓷柱真空灭弧室的绝缘性能
- High VoltageApparatus Issue 5, Pages: 26-28(1983)
- 作者机构：
  
  西安高压电器研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  CLC：
- Published：1983
- 稿件说明：
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[1]顾伟雄.瓷柱真空灭弧室的绝缘性能[J].高压电器,1983(05):26-28.

瓷柱真空灭弧室的绝缘性能[J]. High voltageapparatus, 1983, (5): 26-28.
[1]顾伟雄.瓷柱真空灭弧室的绝缘性能[J].高压电器,1983(05):26-28. DOI：

瓷柱真空灭弧室的绝缘性能[J]. High voltageapparatus, 1983, (5): 26-28. DOI：

摘要

本文着重介绍了瓷柱的绝缘性能和用瓷柱支撑电弧屏蔽罩对真空灭弧室绝缘性能的影响。

Abstract

本文着重介绍了瓷柱的绝缘性能和用瓷柱支撑电弧屏蔽罩对真空灭弧室绝缘性能的影响。

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