高压真空接触器的发展

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高压真空接触器的发展

更新时间：2025-04-26

- 高压真空接触器的发展
- High VoltageApparatus Issue 3, Pages: 37-39(2000)
- 作者机构：
  
  西安高压电器研究所,西安,710077
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13296/j.1001-1609.hva.2000.03.013
  CLC： TM572
- Published：2000
- 稿件说明：
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[1]何利利.高压真空接触器的发展[J].高压电器,2000(03):37-39.

高压真空接触器的发展[J]. High voltageapparatus, 2000, (3): 37-39.
[1]何利利.高压真空接触器的发展[J].高压电器,2000(03):37-39. DOI： 10.13296/j.1001-1609.hva.2000.03.013.

高压真空接触器的发展[J]. High voltageapparatus, 2000, (3): 37-39. DOI： 10.13296/j.1001-1609.hva.2000.03.013.

摘要

本文较系统地介绍了当前高压真空接触器的发展状况、特点、差异和未来的发展趋势。

Abstract

本文较系统地介绍了当前高压真空接触器的发展状况、特点、差异和未来的发展趋势。

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